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產(chǎn)品名稱：MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
產(chǎn)品型號：MA-5501ML
產(chǎn)品廠商：日本DNK大日本科研
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研 MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研 MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研

詳情介紹：

MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
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裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產(chǎn)。

特長：

能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙。
可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。
可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫

		MA-5501ML	MA-5701ML
基板尺寸		370 x 470mm	550 x 650mm
對位		非接觸預對位～自動對位
間隙		擁有傳感性能
光源		超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW or 5kW	超高壓水銀燈：10kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2400 x D2480 x H2290mm (另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)	W3600 x D3870 x H2500mm (另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)
	本體重量	1500kg	1900kg
	光源重量	500kg	1100kg
	無塵機房重量	250kg	300kg
選購項		掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途		觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等