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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
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無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
實現(xiàn)PDP用世界*大基板(42英寸16面)均勻曝光的近接曝光機。
特長：
支撐高精度的獨自技術(shù)
<光學(xué)間隙傳感器> 在非接觸的條件下,高速度和高精度地設(shè)定近接間隙。
<高速圖像處理技術(shù)> 掩膜以及掩膜與基板的高精度對位。
穩(wěn)定搬送
直立配置掩膜臺和基板臺,不需要補正因掩膜和掩膜臺以及基板臺的自身重量而造成的彎曲變形。
無塵措施
在無塵化要求更加嚴格的CF用曝光裝置等的經(jīng)驗和設(shè)計的基礎(chǔ)上,采取了減少驅(qū)動部微粒子發(fā)生及考慮到氣流的無塵對策。
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